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九一果冻制作厂-产物系统--纳米压印配套设备-GL Plasma等离子体清洗设备
产物型号:
简要描述:? GL Plasma等离子体清洗设备数适用于大300mm直径以下晶圆或者330×400mm基材(软工作模具基材)。
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有效保修
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纳米压印配套设备
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详细介绍
GL Plasma等离子体清洗设备主要应用于活化,提升附着力和清洗等工艺。
●适用于大300尘尘直径以下晶圆或者330×400尘尘基材(软工作模具基材)
●适用于清洗纳米压印基底表面
●适用于纳米压印基底表面增粘、激活、改性
●适用于增加工作模具基材与模具复制材料粘附性
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型号:
0532-67769322
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