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九一果冻制作厂-产物系统--纳米压印配套设备-GL Plasma等离子体清洗设备

GL Plasma等离子体清洗设备

产物型号:

简要描述:? GL Plasma等离子体清洗设备数适用于大300mm直径以下晶圆或者330×400mm基材(软工作模具基材)。

  • 厂家实力

    Manufacturer Strength
  • 有效保修

    Valid Warranty
  • 质量保障

    Quality Assurance

详细介绍

GL Plasma等离子体清洗设备主要应用于活化,提升附着力和清洗等工艺。


GL Plasma等离子体清洗设备相关参数

●适用于大300尘尘直径以下晶圆或者330×400尘尘基材(软工作模具基材)

●适用于清洗纳米压印基底表面

●适用于纳米压印基底表面增粘、激活、改性

●适用于增加工作模具基材与模具复制材料粘附性



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